Dissertation / PhD Thesis/Book PreJuSER-36084

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png
Entwicklung und Beschreibung von Dünnschichtsensoren zur Farbenkennung



1999
Forschungszentrum, Zentralbibliothek Jülich

Jülich : Forschungszentrum, Zentralbibliothek, Berichte des Forschungszentrums Jülich 3684, () = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1999

Please use a persistent id in citations:

Report No.: Juel-3684

Abstract: Gewohnlich werden zur Farbbildverarbeitung CCDs oder CMOS-Sensoren eingesetzt, die mit einem Filterarray beschichtet sind. Die Farbdetektion mittels eines Filterarrays fuhrt allerdings zum Farb-Moire- oder Farb-Aliasing-Effekt, welcher beobachtet wird, wenn Strukturen mit hohen Ortsfrequenzen aufgenommen werden. Weiterhin besitzen traditionelle Sensorsysteme eine begrenzte Auflosung und einen geringen Flachenfullfaktor aufgrund der Unterteilung eines Farbpixels in mehrere chromatische Subpixel. Zur Uberwindung des Farb-Moire-Effekts sind vertikal integrierte Sensoren aus amorphem Silizium (a-SirH) und dessen Legierungen hergestellt worden. Aufgrund der hohen Photoempfindlichkeit vom ultravioletten (UVA) bis zum nahen infraroten (IR) Teil des Spektrums ist amorphes Silizium ein hervorragendes Material fur Dunnschicht-Farbsensoren. Wahrend die Farbinformation mit einem Zweipol-Bauelement sequentiell durch Wechsel der angelegten Sparmung ausge1esen werden kann, erlaubt ein Mehrkanalsensor die simultane Generation eines ROB-Signals an einem art. Die Farbtrennung eines Zweipol-Dreifarbsensors wird durch die Anpassung der optischen Bandlucke und des fl't-(LadunsgtragerBeweglichkeits- Lebensdauer)-Produktes der Absorberschicht des Bauelements erreicht. Somit wurden Mehrkanalsensoren aus gestapelten amorphen pin-Dioden realisiert, die die Generation von 3 oder 4 Sensorsignalen an einem art. Weiterhin wurde ein 6-Kanal-Sensor vorgestellt, der mittels zweier Schusse ausgelesen werden kann. Der 6-Kanal-Sensor zeigt einen Farbfehler nahe der menschlichen Farbwahrnehmungsgrenze.


Note: Record converted from VDB: 12.11.2012
Note: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1999

Contributing Institute(s):
  1. Institut für Schicht- und Ionentechnik (ISI)
Research Program(s):
  1. ohne FE (ohne FE)

Appears in the scientific report 1999
Database coverage:
OpenAccess
Click to display QR Code for this record

The record appears in these collections:
Document types > Theses > Ph.D. Theses
Workflow collections > Public records
Publications database
Open Access

 Record created 2012-11-13, last modified 2020-06-10